项目展示
产品描述
项目地点:苏州高新区科技城
建设单位:苏州科技城发展集团有限公司
设计时间:2019.06~2022.04
用地性质:工业(研发)
容积率:1.80
建筑面积:49765.36㎡
用地面积:23132.92㎡
项目负责人:文威
方案:许鹏、陈潇
建筑:陆亚强、陆静、秦晓春
结构:张浩、潘凯、张燕
给排水:恽乐、张庆粉
电气:冯小芳、罗亮
暖通:张新星
01
前期分析
苏州科技城围绕“科技、生态、人文”的规划定位,抢抓苏南国家自主创新示范区重大机遇,推动发展新产业、不断集聚新人才,已发展成为苏州市和苏州高新区科学发展与转型升级的重要一级。
本次设计之初,对设计因素进行了梳理:

苏州长光华芯光电期望成为国际一流的半导体光电研发平台和产业化公司,致力于向国内外客户提供高性能的产品及解决方案,与客户共同开拓光电技术的应用。
公司主要以半导体激光芯片外延,芯片工艺研发为主。通过苏州半导体激光创新研究院,吸引全球顶尖人才,以长光华芯半导体激光器芯片技术的领先性和辐射能力,汇聚相关高端产业,构建可持续发展的领先的研发平台,打造具有国际影响力的半导体激光器芯片及相关领域创新高地和产业基地。全面推动中国激光产业链的深度国产化,提升全球竞争力,促进产业繁荣发展。
02
区域区位
基地位于苏州科技城,西侧为漓江路,北侧天目山路,两条道路均为支路,交通干扰较少,场地环境安静。规划地块总面积约为23132.92㎡,总建筑面积49765.36㎡,容积率1.80。

总体布局考虑车行流线与人行流线进行有效分离。办公人员从西侧进入场地,货运及后勤流线从北侧天目山楼进入场地。
整体布局为西高东低,充分利用空间进行单体设计,在需要增设的建筑出入口增加广场设计,基地北侧和西侧有河道和沿河景观,有一定的景观优势,局部借用城市河道景观,形成园区良好的景观视野。

03
设计理念
本案充分考虑了地块与城市的对话、建筑与场地的契合,设计试图打破传统办公与生产厂房的固有形象,从而创造出适于城市内的展示型研发厂区新理念。
本设计中建筑功能分三类:办公楼、生产楼和附属及辅助用房,用不同等级的道路及广场,有机的进行的功能划分。
办公楼
点式塔楼是本次设计的核心,位于基地的西侧,是一栋包含裙房的14层大楼,内部包含厂区人员的办公、研发、实验等功能。裙房部分设置企业展厅,提供良好的展览环境。

立面处理上,以玻璃幕墙为主,通过体块的凹凸进退关系强化建筑体量。玻璃幕墙的铝板格栅通过不同的组合方式进行拼接,形成不同的节奏关系变化,以形成韵律统一简洁大方的幕墙效果,让建筑仿佛从玻璃晶体中切割出来的感觉。


通过拔高建筑高度,形成挺拔的建筑形象。每隔三层设置室外活动平台空间,让办公人员可以充分接触自然,享受自然,为他们创造优良的办公、研发环境。
生产厂房
生产厂房作为产业园的主要区域,与办公楼和辅助用房沿东西主轴线布置,形成高低错落的关系,以此映射科技城独特的山水资源。

内部功能以大空间生产研发用房为主,每栋厂房拥有公共的客梯门厅、货运平台和相应配套设施,方便员工使用。
为了彰显园区建筑沉稳及活泼的氛围,打破固有厂房形象。生产楼整体采用深灰色真石漆作为外立面主要材料,以此凸显石材的厚重感。
开窗形式则与办公楼形成呼应,通过拓扑关系的变化形成统一。简洁统一的立面设计彰显园区的科技感,通过极简的竖向线条进行立面分隔,夜景配以不同的灯光颜色,以此反映项目半导体激光芯片的项目属性。
在满足基本配套服务功能要求的前提下,顶层增加了员工休闲娱乐区域。
综合楼
3#综合楼位于园区南侧,内部布置活动室、员工餐厅及厨房,员工餐厅与生产楼采取连廊连接,方便厂区员工就餐。

生产楼与辅助用房位于园区内部,形成相对独立的生产区域,与外部环境有一定隔绝,彼此互不干扰。
05
设计图纸

办公楼轴J-轴A立面图

办公楼轴A-轴J立面图

办公楼轴4~轴1立面图

办公楼轴1~轴4立面图

生产厂房立面图
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